測定波長範囲 |
130nm〜260nm 200nm〜400nm(オプションのフォトマル使用時) |
光源 |
重水素ランプ(30W) |
測定光学系 |
ダブルビーム光学系 |
分光器 |
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マウント |
瀬谷−浪岡方式 |
曲率半径 |
200mm |
回折格子 |
凹面回折格子(ホログラフィック) |
刻線本数 |
1200本/mm |
ブレーズ波長 |
150nm |
逆線本数 |
4nm/mm(155.5nmにおいて) |
スリット |
幅:0.005mm〜2.5mm(手動連続可変) 高さ:4mm固定 |
波長駆動方式 |
ステッピングモーター駆動方式 |
走査速度 |
600,300,150,60,30,15,6,3,1.5nm/mm |
波長/パルス |
0.01nm/1パルス |
真空高温炉 |
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最高温度 |
2,000度 |
温度範囲 |
常温〜2,000度 |
雰囲気 |
真空、不活性ガス |
到達真空度 |
10−6Torrオーダー
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雰囲気圧力 |
0.07kg/cm2
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均熱ゾーンサイズ |
10mmW×10mmD×10mmH |
クライオスタット |
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温度範囲 |
4.2K〜500K |
温度安定性 |
±0.1K |
試料スペース |
φ15mm×3mm |
真空排気系 |
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ターボ分子ポンプ |
520リットル/min 1台 160リットル/min 1台 |
ロータリーポンプ |
800リットル/min 1台 150リットル/min 1台 |
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