光学測定用真空加熱装置
MVHC-3040
光学測定用真空加熱装置 MVHC-3040
 
本装置は、真空環境下での高温加熱と光学測定に対応した、コンパクト設計の真空加熱ユニットです。最大500℃までの加熱性能と、安定したPID温度制御機能により、高温下での材料評価に最適です。石英ガラス製の光学窓（有効径φ40mm）を前面に備え、試料へのレーザー照射や発光観測が可能です。これにより、加熱中の高温フォトルミネッセンス（PL）測定など、温度依存性の光学特性評価にも対応できます。試料ホルダの中心高さは190mmに設定されており、光学系との光軸合わせがしやすい設計です。真空チャンバーは1×10-3 Torrの高真空に対応しており、試料の酸化や汚染を抑えた測定環境を実現します。真空ポートにはNW25フランジを採用しており、各種真空機器との接続も容易です。

■仕様
温度範囲 室温〜500℃
温度制御方式 K熱電対によるPID制御
真空対応 1×10-3 Torr
光学窓 石英ガラス製（有効径φ40mm）
試料取付面サイズ W30mm x H40mm
試料ホルダ中心高さ 190mm
真空ポート NW25フランジ

※本仕様および外観は改善のため予告無く変更することがあります。